光刻機和蝕刻機是什么,？光刻機與蝕刻機是生產(chǎn)芯片的兩大重要機子，可以說一個是魂,，另外一個是魄,。至于說這兩個機子的具體功能是什么呢？

最簡單的解釋就是：光刻機把電路圖投影到覆蓋有光刻膠的硅片上面,，刻蝕機再把剛才畫了電路圖的硅片上的多余電路圖腐蝕掉,。這樣看起來似乎沒什么難的，但是有一個形象的比喻,，每一塊芯片上面的電路結(jié)構(gòu)放大無數(shù)倍來看比整個北京的線路圖都復雜,，這就是這光刻和蝕刻的難度。這兩者的加工精度是頭發(fā)絲直徑的幾千分之一到上萬分之一,。以16nm的CPU來說,，加工尺度為普通人頭發(fā)絲的五千分之一，加工的精度和重復性要達到五萬分之一,，更不用說更先進的10nm及7nm的CPU了,。

我國光刻機的水平我國目前生產(chǎn)光刻機最為先進的企業(yè)為上海微電子裝備（集團）股份有限公司,，這是一家有著國資背景的企業(yè)（前兩大股東均為國有企業(yè)），成立于2002年,，至今已有17年的歷史,，實現(xiàn)了我國光刻機從無到有的地步。

光刻機從出現(xiàn)到現(xiàn)在一共歷經(jīng)了五代的發(fā)展,，現(xiàn)在世界上最新進的光刻機生產(chǎn)企業(yè)為荷蘭的ASML（阿斯麥）,，已經(jīng)可以做到第五代EVU的7nm制程的量產(chǎn)，上海微電子雖然發(fā)展速度很快,，但是目前只做到了光刻機第四代ArF的90nm制程,，且尚無法量產(chǎn)。按量產(chǎn)能力來說差了近兩個年代,，按照研發(fā)能力來說,，差了一個年代。所以我國的光刻機水平距離世界領(lǐng)先水平還是有較大的差距的,。

我國的刻蝕機水平國內(nèi)生產(chǎn)刻蝕機水平最高的企業(yè)為中微半導體設(shè)備（上海）有限公司（這家同樣是有國資背景的企業(yè),，前兩大股東也是國有企業(yè)，所以有人說我國光刻機沒發(fā)展起來是因為國企的原因,，這是不對的,，中微半導體也可以說是國企，但是刻蝕機的技術(shù)水平是世界領(lǐng)先水平的）,。

中微的發(fā)展離不開尹志堯為代表的幾十位海歸技術(shù)專家,。根據(jù)央視財經(jīng)2017年的報導，尹志堯曾經(jīng)擔任應用材料的公司副總裁（應用材料是半導體設(shè)備廠商龍頭老大）,，參與領(lǐng)導幾代等離子體刻蝕設(shè)備的開發(fā),，在美國工作時就持有86項專利。

2004年的時候尹志堯和他的團隊決定回國,，不再給外國人做嫁衣,，在回國之際,，所有技術(shù)專家承諾不會把美國公司的技術(shù),，包括設(shè)計圖紙、工藝過程帶回國內(nèi),，美國方面也對歸國人員持有的600多萬個文件和所有個人電腦做了徹底清查,。

2004年回來之后，國家牽頭設(shè)立了中微半導體公司,，尹志堯等人重新投入研發(fā)刻蝕機,，僅僅用了3年的時間就做出了世界領(lǐng)先的高性能刻蝕機，為此美國人無法接受,，還起訴了中微半導體專利侵權(quán),，但是最終的驗證結(jié)果是沒有任何的侵權(quán),。（這才是中微半導體比上海微電子發(fā)展快的原因，畢竟上海微電子的沒有人才在荷蘭的ASML工作過,，也許正是因為這件事,，所以美國現(xiàn)在禁止ASML招聘中國的員工）。

隨著中微半導體的興起,，2015年美國商業(yè)部工業(yè)安全局還特別發(fā)布公告,，由于認識到中國可以做出具有國際競爭力的等離子刻蝕機，所以決定把等離子刻蝕機從美國對中國控制的單子上去掉了,。因此在刻蝕機領(lǐng)域,，我們目前已經(jīng)是處于世界領(lǐng)先水平了。